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August, 2002年

日刊工業新聞「Nd:YVO4マイクロチップレーザー 80.3%のスロープ効率達成」

2002年08月09日

岡崎国立共同研究機構分子科学研究所の平等拓範助教授らは、ネオジウムを添加したイットリウムバナデード(Nd:YVO4)マイクロチップレーザーを輻射 制御直接励起方式で励起することにより80.3%のスロープ効率を達成。半導体レーザー(LD)励起固体レーザー(DPSSL)でスロープ効率80%台は 初めて。この成果をもとにオキサイド、浜松ホトニクスと共同で、同方式による高濃度Nd:YAGマイクロチップレーザーの実用化を目指す。

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